Atals P30 高浓度臭氧发生器PLD应用现场

Atals P30 高浓度臭氧发生器PLD应用现场

 Atals P30 专为半导体行业设计，适用于PLD、ALD、MBE等工艺，为硅片清洗、光刻胶去除等应用提供高效、可靠的解决方案。

ALD原子层沉积

用作强氧化剂，生成高介电氧化物薄膜。

PLD脉冲激光沉积

清洁腔体与基片，去除有机污染物。

MBE分子束外延

制备超薄、超晶格等先进半导体材料。

CVD化学气相沉积

化学气相沉积与原子层沉积，制备高质量薄膜。

水处理高级氧化

降解水中难处理有机污染物，净化水质。

化学合成

新型化合物、纳米材料的精准制备。