NANO15提供臭氧发生器稳定、高浓度臭氧气体现场

NANO15提供臭氧发生器稳定、高浓度臭氧气体现场

在高精度的原子层沉积（ALD）工艺中，NANO15系列15克/小时臭氧发生器已成为一项关键辅助设备。ALD技术依赖于交替通入前驱体和高活性的反应物，在基底表面实现逐个原子层的薄膜生长。臭氧（O₃）作为一种强氧化剂，在此过程中扮演着至关重要的角色。

NANO15臭氧发生器能够为ALD工艺提供稳定、高浓度的臭氧气体。其核心优势在于，通过高效的电晕放电法产生臭氧，浓度通常可达100-200 g/Nm³，且输出稳定，波动极小。这种稳定性对于确保每一层ALD循环的反应均匀性和重复性至关重要，是实现高质量、无针孔薄膜（如高介电常数的Al₂O₃、HfO₂等）的基础。

在实际应用中，NANO15尤其适用于研究级或小批量生产型的ALD系统。例如，在沉积金属氧化物薄膜时，臭氧能高效地与金属前驱体（如TMA、TEMAHf）发生反应，彻底去除有机物配体，形成纯净的氧化物薄膜。相较于传统的水（H₂O）作为氧化剂，臭氧能在更低的沉积温度下实现更高的薄膜密度和更优的电学性能，同时有效抑制某些 undesired 副反应。

因此，NANO15这款紧凑而高效的臭氧发生器，为科研和工业领域开发高性能纳米薄膜器件（如半导体栅极介质、薄膜封装层、催化材料等）提供了可靠的反应物来源，是推动先进ALD工艺发展的重要工具。